반도체장비제작

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플라즈마

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플라즈마 설명

플라즈마란 매우 높은 온도 등에서 이온이나 전자, 양성자와 같이 전하를 띤 입자들이 섞여있는 상태를 말하며
전체적으로 중성적인 상태를 띱니다.
플라즈마 안에서는 반응성이 극대화되어 물질의 이온화와 재결합이 활발해지기 때문에 플라즈마를 이용하여
기존의 물질의 합성이나 가공 방법으로는 하기 어려웠던 새로운 물질을 만들 수도 있고 공해유발 공정이나 난공정 등을 대체할 수 있다.

플라즈마표면처리 서비스

1) 플라즈마 크리닝 : 진공상태에 가스를 주입하여 플라즈마를 형성하였을 경우, 이온화된 가스 입자들은 재료의
표면을 물리, 화락적인 방법으로 표면에 충격을 가하여 이물질들을 증발시키거나 뜯어낸다.

2) 플라즈마 개질 : 진공상태에 O2, Ar, N2 가스등을 주입하여 플라즈마를 형성 하였을 경우, 특히 산소 입자는 처리물 표면에 흡착되어 아교 등의 접착력을 향 상 시킨다.

플라즈마표면처리 이점

플라즈마 표면처리의 기본은 본래의 재료가 다음 공정의 다른 재료와 잘 반응할 수 있도록 재료의 화학적 결합을 바꾸는 공정이 요구되는데, 이는 플라즈마 상태 내의 이온이나 전자,전기의 에너지를 이용해 가능하게 된다.
화학적 방법에 의한 표면처리는 많은 화학제품의 처리에 관계된 환경적인 문제를 야기하나 플라즈마를 이용하는 방법은 환경 친화적인 공정이므로 많은 이점이 있다.

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